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工業(yè)微納光刻系統(tǒng)

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱納糯三維科技(上海)有限公司Nanoscribe
  • 品       牌
  • 型       號Quantum X
  • 所  在  地國外
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2025/4/16 17:15:03
  • 訪問次數(shù)109
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  德國Nansocribe全資子公司 -
 
  德國Nanoscribe成立于2007年,總部位于德國卡爾斯魯厄,于2017年在中國上海成立分公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司。作為Nanoscribe在中國全資子公司,其加強了德國的新技術(shù)在中國的銷售推廣;在鞏固并擴大現(xiàn)有業(yè)務(wù)關(guān)系的同時,進一步擴大了在整個亞太地區(qū)客戶服務(wù)范圍,負責(zé)系統(tǒng)的安裝,維護,以及相關(guān)培訓(xùn)任務(wù)。分公司新建立的亞太實驗室可供客戶參觀和學(xué)習(xí)。
 
  目前,超過30個國家,1500名用戶正在使用Nanoscribe設(shè)備。排名*的大學(xué)里已經(jīng)有六所購買了Nanoscribe打印設(shè)備,這些大學(xué)包含哈佛大學(xué)、加州理工學(xué)院、牛津大學(xué)、倫敦帝國理工學(xué)院和蘇黎世聯(lián)邦理工學(xué)院、斯坦福大學(xué)等等。
 
  Nanoscribe公司的Photonic Professional GT系列是目前*的打印精度zui高的3D打印機。跟傳統(tǒng)的以激光立體光刻為代表的高精3D打印機相比,利用雙光子聚合技術(shù)原理的Photonic Professional GT系列能夠輕松打印出精細結(jié)構(gòu)分辨率高出100倍的三維微納器件。
 
  不管是在科研領(lǐng)域還是在工業(yè)界,雙光子加工都被認為是非常具有應(yīng)用前景的精細加工技術(shù)之一。作為市面上雙光子加工技術(shù)的翹楚,Nanoscribe 系列微納加工打印系統(tǒng)提供了全智能的軟件操作界面以及標準化3D作業(yè)流程,能夠?qū)崿F(xiàn)多種材料的增材制造。Nanoscribe幫助推動著諸如力學(xué)超材料、激光快速成型,微納機器人,再生醫(yī)學(xué)工程,微納光學(xué),微機電以及等離激元等多個創(chuàng)新領(lǐng)域的研究。
 
微納3D打印設(shè)備
Nanoscribe QX系列雙光子無掩膜光刻系統(tǒng) - Quantum X align作為行業(yè)內(nèi)認證的3D打印設(shè)備具備了對準雙光子光刻技術(shù)A2PL®,可實現(xiàn)在光纖和光子芯片上的納米級精確對準。
工業(yè)微納光刻系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

Nanoscribe QX系列雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)實現(xiàn)最高分辨率
A2PL®技術(shù)3D打印應(yīng)用于納米級精度對準

全新Quantum X align對準雙光子光刻(A2PL®)系統(tǒng)通過新添加的高精度對準功能實現(xiàn)了對高精度結(jié)構(gòu)的精準放置,增強了Nanoscribe已受大眾認可的三維微納加工技術(shù)。這款具備納米級精度對準3D打印功能的最高分辨率打印設(shè)備利用A2PL技術(shù),自由曲面微光學(xué)原件可以以亞微米精度精準對齊打印到光纖或光子芯片光軸上??蓱?yīng)用于生產(chǎn)用于光子集成和封裝或小型化成像光學(xué)器件的高效光學(xué)互連,例如用于微創(chuàng)內(nèi)窺鏡檢查等。


從對準到打印一步完成

集成光子學(xué)或小型化醫(yī)療設(shè)備的封裝通常需要各種微光學(xué)元件相互之間進行繁瑣的放置和A2PL光學(xué)接口對準流程。Quantum X align簡化了這一過程,A2PL技術(shù)實現(xiàn)了光子芯片或光纖芯上的光學(xué)接口及其空間方向的自動檢測,以及自由曲面微光學(xué)或衍射元件可直接打印到位。在實現(xiàn)更緊湊設(shè)備的同時減少了裝配工差,并大大降低了工藝鏈的復(fù)雜性,避免了原本耗資巨大的手動對準流程。

對準光纖和光子芯片

當(dāng)在單劈型光纖或v型槽光纖陣列上打印時,自動3D光纖芯檢測系統(tǒng)和自動傾斜校正功能確保了精確對準和低耦合損耗。
Quantum X align還具有共焦成像模塊,用于基底拓撲3D構(gòu)圖,并可自動對準預(yù)定義的標記或波導(dǎo)。這使得Quantum X align成為將微光學(xué)元件直接打印到光子芯片表面或刻面上的
有效工具,適用于工業(yè)制造中的光子封裝。

精準實現(xiàn)您的想法

具有納米級精度的3D對準系統(tǒng),加上強大且用戶友好的工作流程,為三維微納光學(xué)以外的其他微納加工應(yīng)用開辟了新的機會。從微流體到復(fù)雜的傳感器系統(tǒng)或MEMS: Quantum X align是高精度3D微納加工的有效工具,可在復(fù)雜3D基底上以最高精度實現(xiàn)自動定位。


Nanoscribe QX系列雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)
  • 通過對準雙光子光刻技術(shù)(A2PL)實現(xiàn)高性能3D微納加工

  • 在光纖上進行3D打印: 基于纖芯檢測功能實現(xiàn)在光纖表面精確對準打印

  • 在芯片上進行3D打印: 基于3D基底拓撲構(gòu)圖在芯片表面或刻面上精確對準打印

  • 3D對準技術(shù):自動檢測和三個旋轉(zhuǎn)軸上襯底傾斜補償

  • 高速微納加工智能切片

打印程序和工作流程
  • 基于雙光子聚合(2PP)的高精度3D打印

  • 采用Dip-in激光光刻(DiLL)進行簡單、可靠的設(shè)置

  • 100納米特征尺寸控制

  • 對準雙光子光刻技術(shù)(A2PL)在預(yù)定義位置實現(xiàn)精準3D打印


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