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微納光刻系統(tǒng)報(bào)價(jià)

參考價(jià)	面議

參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱納糯三維科技（上海）有限公司Nanoscribe
品牌
型號(hào)Quantum X
所在地國(guó)外
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2025/4/15 18:17:15
訪問(wèn)次數(shù)81

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

　　德國(guó)Nansocribe全資子公司 -

　　德國(guó)Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國(guó)卡爾斯魯厄，于2017年在中國(guó)上海成立分公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司。作為Nanoscribe在中國(guó)全資子公司，其加強(qiáng)了德國(guó)的新技術(shù)在中國(guó)的銷售推廣；在鞏固并擴(kuò)大現(xiàn)有業(yè)務(wù)關(guān)系的同時(shí)，進(jìn)一步擴(kuò)大了在整個(gè)亞太地區(qū)客戶服務(wù)范圍，負(fù)責(zé)系統(tǒng)的安裝，維護(hù)，以及相關(guān)培訓(xùn)任務(wù)。分公司新建立的亞太實(shí)驗(yàn)室可供客戶參觀和學(xué)習(xí)。

　　目前，超過(guò)30個(gè)國(guó)家，1500名用戶正在使用Nanoscribe設(shè)備。排名*的大學(xué)里已經(jīng)有六所購(gòu)買了Nanoscribe打印設(shè)備，這些大學(xué)包含哈佛大學(xué)、加州理工學(xué)院、牛津大學(xué)、倫敦帝國(guó)理工學(xué)院和蘇黎世聯(lián)邦理工學(xué)院、斯坦福大學(xué)等等。

　　Nanoscribe公司的Photonic Professional GT系列是目前*的打印精度zui高的3D打印機(jī)。跟傳統(tǒng)的以激光立體光刻為代表的高精3D打印機(jī)相比，利用雙光子聚合技術(shù)原理的Photonic Professional GT系列能夠輕松打印出精細(xì)結(jié)構(gòu)分辨率高出100倍的三維微納器件。

　　不管是在科研領(lǐng)域還是在工業(yè)界，雙光子加工都被認(rèn)為是非常具有應(yīng)用前景的精細(xì)加工技術(shù)之一。作為市面上雙光子加工技術(shù)的翹楚，Nanoscribe 系列微納加工打印系統(tǒng)提供了全智能的軟件操作界面以及標(biāo)準(zhǔn)化3D作業(yè)流程，能夠?qū)崿F(xiàn)多種材料的增材制造。Nanoscribe幫助推動(dòng)著諸如力學(xué)超材料、激光快速成型，微納機(jī)器人，再生醫(yī)學(xué)工程，微納光學(xué)，微機(jī)電以及等離激元等多個(gè)創(chuàng)新領(lǐng)域的研究。

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微納3D打印設(shè)備

產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

Nanoscribe QX系列雙光子無(wú)掩膜光刻系統(tǒng) - Quantum X align作為行業(yè)內(nèi)認(rèn)證的3D打印設(shè)備具備了對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)A2PL®，可實(shí)現(xiàn)在光纖和光子芯片上的納米級(jí)精確對(duì)準(zhǔn)。

微納光刻系統(tǒng)報(bào)價(jià) 產(chǎn)品信息

Nanoscribe QX系列雙光子無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)分辨率
A2PL®技術(shù)3D打印應(yīng)用于納米級(jí)精度對(duì)準(zhǔn)

全新Quantum X align對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻（A2PL®)系統(tǒng)通過(guò)新添加的高精度對(duì)準(zhǔn)功能實(shí)現(xiàn)了對(duì)高精度結(jié)構(gòu)的精準(zhǔn)放置，增強(qiáng)了Nanoscribe已受大眾認(rèn)可的三維微納加工技術(shù)。這款具備納米級(jí)精度對(duì)準(zhǔn)3D打印功能的分辨率打印設(shè)備利用A2PL技術(shù)，自由曲面微光學(xué)原件可以以亞微米精度精準(zhǔn)對(duì)齊打印到光纖或光子芯片光軸上?？蓱?yīng)用于生產(chǎn)用于光子集成和封裝或小型化成像光學(xué)器件的高效光學(xué)互連，例如用于微創(chuàng)內(nèi)窺鏡檢查等。

從對(duì)準(zhǔn)到打印一步完成

集成光子學(xué)或小型化醫(yī)療設(shè)備的封裝通常需要各種微光學(xué)元件相互之間進(jìn)行繁瑣的放置和A2PL光學(xué)接口對(duì)準(zhǔn)流程。Quantum X align簡(jiǎn)化了這一過(guò)程，A2PL技術(shù)實(shí)現(xiàn)了光子芯片或光纖芯上的光學(xué)接口及其空間方向的自動(dòng)檢測(cè)，以及自由曲面微光學(xué)或衍射元件可直接打印到位。在實(shí)現(xiàn)更緊湊設(shè)備的同時(shí)減少了裝配工差，并大大降低了工藝鏈的復(fù)雜性，避免了原本耗資巨大的手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)流程。

對(duì)準(zhǔn)光纖和光子芯片

當(dāng)在單劈型光纖或v型槽光纖陣列上打印時(shí)，自動(dòng)3D光纖芯檢測(cè)系統(tǒng)和自動(dòng)傾斜校正功能確保了精確對(duì)準(zhǔn)和低耦合損耗。
Quantum X align還具有共焦成像模塊，用于基底拓?fù)?D構(gòu)圖，并可自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)預(yù)定義的標(biāo)記或波導(dǎo)。這使得Quantum X align成為將微光學(xué)元件直接打印到光子芯片表面或刻面上的有效工具，適用于工業(yè)制造中的光子封裝。

精準(zhǔn)實(shí)現(xiàn)您的想法

具有納米級(jí)精度的3D對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，加上強(qiáng)大且用戶友好的工作流程，為三維微納光學(xué)以外的其他微納加工應(yīng)用開辟了新的機(jī)會(huì)。從微流體到復(fù)雜的傳感器系統(tǒng)或MEMS: Quantum X align是高精度3D微納加工的有效工具，可在復(fù)雜3D基底上以精度實(shí)現(xiàn)自動(dòng)定位。