TEA采用創(chuàng)新的光干涉原理技術(shù),可無損檢測塊體和薄膜樣品透明材料的熱膨脹系數(shù),廣泛應(yīng)用于輔助各種新材料,尤其是薄膜材料的研究與開發(fā)以及質(zhì)量檢驗(yàn)。
熱膨脹系數(shù)分析儀技術(shù)
自主知識產(chǎn)權(quán)產(chǎn)品,擁有多項(xiàng)技術(shù)。
基于光干涉原理的創(chuàng)新技術(shù),通過照射到樣品上下表面產(chǎn)生的兩束反射光發(fā)生干涉,得到光功率隨溫度的變化曲線,通過計算得到材料的熱膨脹系數(shù)。
采用PID調(diào)節(jié)與模糊控制相結(jié)合形式控制的紅外加熱方式,大溫區(qū)連續(xù)、高速溫度跟隨、既定程序升溫及保持控制。
非接觸式無損檢測,測試精度高。
具備外接抽真空設(shè)備、循環(huán)水冷設(shè)備及載氣或制冷能力。
熱膨脹系數(shù)分析儀技術(shù)參數(shù)
型號 | TEA-300 | TEA1200 | TEA-1800 |
溫度范圍 | RT~300℃ | RT~1200℃ | RT~1800℃ |
程序升溫重復(fù)性偏差 | <1.0% |
程序升溫速率偏差 | <1.0% |
熱膨脹系數(shù)測量精密度偏差 | <4.5% |
熱膨脹系數(shù)測量正確度偏差 | <±15% |
工作功率 | 4.0kw |
升溫速度 | 50℃/s(50℃~1200℃、真空氛圍),45℃/s℃/(50℃~1200℃,N?氛圍) |
溫度一致性 | ±2.0℃(1200℃,真空),±4.5℃(1200℃,N?) |
制冷要求 | 水冷 |
熱膨脹分辨率 | 266nm |
熱膨脹系數(shù)分析儀樣品要求
尺寸:長×寬5x5~20x20mm2,厚度2.0mm(含基底)以下為宜
適用于透光材料的熱膨脹系數(shù)檢測
具備光學(xué)反射雙平面
檢測樣品的熱膨脹量≥266nm
熱膨脹系數(shù)分析儀測試原理
1.入射光 2.光束隔離器 3.投射光 4.待測樣品
5.反射光 6.反射光 7.聚光鏡 8.濾光片 9.光電傳感器
光路原理圖
激光器射出的光線經(jīng)分光鏡照射到樣品上表面,產(chǎn)生反射光,同時投射光照射到下表面也產(chǎn)生一束反射光,兩束反射光在光電探測器處發(fā)生干涉,反射光功率發(fā)生周期性變化,得到光功率隨材料溫度的變化曲線,通過計算得到熱膨脹系數(shù)。