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日立集團(tuán)
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更新時(shí)間：2023-06-19 12:16:34瀏覽次數(shù)：228次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自 紡織服裝機(jī)械網(wǎng)熒光分布成像系統(tǒng)采用全新設(shè)計(jì)，可以測定并觀察樣品的光譜數(shù)據(jù)。利用AI光譜圖像處理算法*1，不但可以分別顯示樣品的熒光圖像和反射圖像，還可以獲得不同區(qū)域的光譜圖像*1(熒光光譜、反射光譜)。*1計(jì)算系統(tǒng)是國立信息學(xué)研究所的IMARI SATO教授和鄭銀強(qiáng)副教授共同研究的成果。*EEM是日立科學(xué)公司在中國和日本的注冊(cè)商標(biāo)
熒光分布成像系統(tǒng)采用全新設(shè)計(jì)，可以測定并觀察樣品的光譜數(shù)據(jù)。利用AI光譜圖像處理算法*1，不但可以分別顯示樣品的熒光圖像和反射圖像，還可以獲得不同區(qū)域的光譜圖像*1(熒光光譜、反射光譜)。
新技術(shù)可同時(shí)獲得熒光 · 反射圖像和光譜
EEM View Analysis 界面（樣品：LED電路板）
均勻的光源系統(tǒng)
同時(shí)獲取樣品的熒光 · 反射圖像和光譜！
新型熒光分布成像系統(tǒng)可安裝到F-7100熒光分光光度計(jì)的樣品倉內(nèi)。入射光經(jīng)過積分球的漫反射后均勻照射到樣品，利用F-7100標(biāo)配的熒光檢測器可以獲得樣品熒光光譜，結(jié)合積分球下方的CMOS相機(jī)可獲得樣品圖像，并利用的AI光譜圖像處理算法，可以同時(shí)得到反射和熒光圖像。
樣品安裝簡單，適用于各種樣品測試！
樣品只需擺放到積分球上，安裝十分簡單！
為了提高可視性，我們測量了具有精細(xì)結(jié)構(gòu)的熒光反射片。
同時(shí)獲得光譜數(shù)據(jù)和樣品圖像
對(duì)樣品照射360 nm～700 nm范圍內(nèi)的單色光以及白光。此時(shí)，可獲得不同光源條件下的圖像，同時(shí)通過熒光檢測器可獲得熒光光譜。測定完成后，可以查看樣品的三維熒光光譜（激發(fā)波長、發(fā)射波長、熒光強(qiáng)度）。在專用分析軟件中，可對(duì)圖像進(jìn)行放大，從而顯示不同區(qū)域的熒光 · 反射光譜。因此能夠確認(rèn)光學(xué)性能分布不均勻的樣品的反射和熒光光譜。
計(jì)算、顯示不同區(qū)域的光譜（熒光 · 反射）
顯示分離圖像（熒光 · 反射）
對(duì)拍攝到的圖像進(jìn)行反射光成分圖像與熒光成分圖像分離
利用AI光譜圖像處理算法，將拍攝的圖像分離為反射光成分和熒光成分圖像。結(jié)果，反射光成分圖像顯示為橙色，熒光成分圖像顯示為綠色。二者分別與反射光譜與熒光光譜的單色光一致。由此可知，此樣品是橙色反射光和綠色熒光的混合，所以在白光下呈黃色。此外，通過反射圖像和熒光圖像可看出樣品不同區(qū)域的光學(xué)特性（圖像圖案）差異。放大圖像后可以看到，反射板的微細(xì)結(jié)構(gòu)存在規(guī)律的間隔，其間隔寬度是200 μm。
主要功能
| 項(xiàng)目 | 內(nèi)容 |
|---|---|
| EEM View模式 （測定模式） | 三維熒光光譜的測定 |
| 單色光圖像 | |
| 白色光圖像 | |
| 預(yù)覽圖像 | |
| 數(shù)據(jù)處理 | 顯示縮略圖 |
| 顯示三維熒光光譜（等高線，漸變圖） | |
| 顯示激發(fā)/發(fā)射光譜 | |
| 顯示放大圖像 | |
| 圖像分區(qū)（1×1、2×2、3×3、4×4、5×5） | |
| 計(jì)算、顯示不同區(qū)域光譜（熒光、反射）*1 | |
| 顯示分離圖像（熒光、反射）*1 |
規(guī)格
| 項(xiàng)目 | 內(nèi)容 |
|---|---|
| 照射波長 | 360 nm ～700 nm |
| 相機(jī) | 彩色（RGB）CMOS傳感器 |
| 接口 | USB3.0 |
| 有效像素?cái)?shù) | 1920 × 1200（H×V） |
| 可拍攝波長范圍 | 380 nm ～700 nm |
配置示例
| 名稱 | P/N（序列號(hào)） |
|---|---|
| F-7100熒光分光光度計(jì) | 5J1-0042 |
| EEM View配件 | 5J0-0570 |
| R928F光電倍增管 | 650-1246 |
| 副標(biāo)準(zhǔn)光源 | 5J0-0136 |
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