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SU9000超高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡2

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專門為電子束敏感樣品和需300萬倍穩(wěn)定觀察的半導(dǎo)體器件，高分辨成像所設(shè)計(jì)。新的電子槍和電子光學(xué)設(shè)計(jì)提高了低加速電壓性能。采用全新設(shè)計(jì)的Super E x B能量過濾技術(shù)，高效，靈活地收集SE / BSE/ STEM信號(hào)。0.4 nm / 30 kV (SE)1.2 nm / 1 kV (SE)0.34 nm / 30 kV (STEM)

詳細(xì)介紹

專門為電子束敏感樣品和需300萬倍穩(wěn)定觀察的半導(dǎo)體器件，高分辨成像所設(shè)計(jì)。

新的電子槍和電子光學(xué)設(shè)計(jì)提高了低加速電壓性能。

采用全新設(shè)計(jì)的Super E x B能量過濾技術(shù)，高效，靈活地收集SE / BSE/ STEM信號(hào)。
0.4 nm / 30 kV (SE)
1.2 nm / 1 kV (SE)
0.34 nm / 30 kV (STEM)

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新的電子槍和電子光學(xué)設(shè)計(jì)提高了低加速電壓性能。

采用全新設(shè)計(jì)的Super E x B能量過濾技術(shù)，高效，靈活地收集SE / BSE/ STEM信號(hào)。
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新的電子槍和電子光學(xué)設(shè)計(jì)提高了低加速電壓性能。

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