深圳市科時達電子科技有限公司
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更新時間：2024-02-19 17:43:07瀏覽次數(shù)：90次
聯(lián)系我時，請告知來自 紡織服裝機械網(wǎng)SAL-3000 ALD原子層沉積系統(tǒng)SAL3000是一款適用于研究型的ALD原子層沉積設備，該設備最多可搭載6路前驅(qū)體，適用于4英寸（φ100mm）以下基底材料的鍍膜。
SAL-3000 ALD原子層沉積系統(tǒng)
SAL3000是一款適用于研究型的ALD原子層沉積設備，該設備最多可搭載6路前驅(qū)體，適用于4英寸（φ100mm）以下基底材料的鍍膜。該設備在保持了優(yōu)異的膜厚分布外，還可進一步通過改變鍍膜方向，來進一步提高鍍膜的質(zhì)量。并且該設備還可搭載互鎖腔體（Load lock Chamber）和手套箱來沉積需要氣氛保護的樣品。
SAL-3000 SAL3000+Load lock chamber
性能及特點：
1.鍍膜質(zhì)量高
·膜厚均勻性≤3% @ 100mm
·對于內(nèi)孔、凹槽與高深寬比結構具有良好的沉積均勻性；
·膜厚可準確控制達一個原子層；
·大面積制程可達到無孔洞薄膜（Pin Hole free）
·的重復性及穩(wěn)定性
·材料缺陷密度低
·可成長非晶型或結晶薄膜（選擇溫度）
2.兩種成膜方向可選
·可選擇將薄膜沉積在基底上表面（SAL-3000D）和基底下表面（SAL-3000U），薄膜沉積在基底下表面可降低顆粒附著基底的風險。
3. 可搭載互鎖腔體（Load lock chamber）和手套箱
4.圖形用戶界面，觸控操作，簡單易用，可存儲30多種鍍膜方案；
5.主機與控制機箱一體化設計；
6. 可搭配多種配件：
干式真空泵，臭氧發(fā)生器，尾氣處理裝置，800℃基底加熱器，200℃前驅(qū)體加熱器等，退火設備等；
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