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荷蘭4PICO 激光直寫光刻機 PicoMaster200

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更新時間：2024-02-19 20:31:10瀏覽次數(shù)：158次

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產(chǎn)品簡介

PicoMaster 200無掩模激光直寫光刻機●250納米分辨率（375納米激光源）●300納米分辨率（405納米激光源）●4095灰階●業(yè)界實力的成套全息設(shè)計軟件●230x230毫米基板尺寸 PicoMaster 200 是一款具有超高精度組件的多功能紫外激光寫入器，專為用戶提供在感光層中創(chuàng)建自由度的微結(jié)構(gòu)而設(shè)計。

詳細(xì)介紹

PicoMaster 200無掩模激光直寫光刻機

●250納米分辨率（375納米激光源）

●300納米分辨率（405納米激光源）

●4095灰階

●業(yè)界實力的成套全息設(shè)計軟件

●230x230毫米基板尺寸

PicoMaster 200 是一款具有超高精度組件的多功能紫外激光寫入器，專為用戶提供在感光層中創(chuàng)建自由度的微結(jié)構(gòu)而設(shè)計。系統(tǒng)的光柵化工作原理，搭配上高速掃描以及可調(diào)螺距步進激光頭，確保了整個曝光制程在感光層表面準(zhǔn)確而穩(wěn)定地完成。PicoMaster 200 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻，LED芯片，微流控芯片，微納結(jié)構(gòu)，灰度光刻，三維加工全息影像等多個領(lǐng)域。

系統(tǒng)優(yōu)點：

√ 系統(tǒng)支持高達(dá)4095級的灰度、純二進制模式；

√ 系統(tǒng)對準(zhǔn)精度小于250納米，線寬均勻性小于50納米；

√ 系統(tǒng)支持9英寸基版，400毫米/秒掃描速度，200x200毫米曝光面積；

√ 系統(tǒng)采取全封閉結(jié)構(gòu)設(shè)計，必需的部件、控制架構(gòu)和真空泵都在外殼內(nèi)，便于快速安裝；

√ 統(tǒng)連接到空氣溫度調(diào)節(jié)器機組開始供應(yīng)空調(diào)空氣時，內(nèi)置堆式過濾器將產(chǎn)生干凈的交叉氣流；

√ 系統(tǒng)運動平臺由機械緩振系統(tǒng)支撐，它將過濾掉絕大多數(shù)的噪音振動，以確保工作時的振動最小

激光直寫：

√ 系統(tǒng)使用405納米（可升級375納米）激光源在感光層上曝光，不需訂購或制作掩模，圖案可隨用戶設(shè)計而改變；

√ 系統(tǒng)不使用掩模版，只需在基版上涂膠后用紫外激光聚焦進行曝光，激光在靶區(qū)被連續(xù)地調(diào)制到規(guī)定的劑量；

√ 光刻膠在激光照射下會改變其化學(xué)結(jié)構(gòu)，曝光后很容易溶解在顯影劑中，只需暴露部分區(qū)域就可以形成目標(biāo)的圖案。