使用等離子的表面處理裝置。著重于“使用簡單”的臺式
高性能型號，調(diào)取數(shù)據(jù)簡單，以電子材料為中心，可對應
多種用途。
●可變更電極構(gòu)造提高等離子效果。
●搭載高精度適配器，高性能RF電源。
●可根據(jù)需求規(guī)格提供定制。
特征
●硅晶圓的灰化及蝕刻
●基板表面污垢處理
●IC/LED封裝、BGA/CSP基板處理
●半導體相關(guān)部品的電子材料的干式清洗
●自然氧化膜·有機物去除
●界面活性處理
●表面污染物去除
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