PHI Quantera II掃描XPS微探針是建基于業(yè)界榮獲*多殊榮的Quantum 2000和Quantera SXM之上**研發(fā)的XPS分析儀器，其革命性的技術(shù)包括：**微聚焦X-ray源，可以得到世界*小至7.5μm的聚焦X-ray；的雙束電荷中和技術(shù)，即使到各位數(shù)微米區(qū)域，依然能夠有效中和樣品荷電；五軸精密樣品臺(tái)及全自動(dòng)樣品傳遞手臂，可同時(shí)進(jìn)樣數(shù)百個(gè)樣品；全自動(dòng)支持互聯(lián)網(wǎng)遠(yuǎn)程控制。這些革命性的技術(shù)，使XPS的應(yīng)用范圍從數(shù)百微米擴(kuò)展至個(gè)位數(shù)微米，同時(shí)能夠高效快速的處理各種樣品，包括導(dǎo)體、絕緣體、磁性樣品等。

詳細(xì)介紹

性能特點(diǎn)

掃描式聚焦X-ray設(shè)計(jì)，使7.5μm至1.4mm的分析區(qū)域內(nèi)都可維持高性能的快速分析。

PHI Quantera II使用了PHI**的掃描聚焦式X-ray源，配合升級(jí)版的單色聚焦石英晶體，對(duì)比上一代的*小X-ray束斑進(jìn)一步減少20%至7.5μm。X-ray束斑從7.5μm至400μm范圍內(nèi)連續(xù)，配合掃描功能，使分析面積范圍擴(kuò)充至7.5μm~1400μm*1400μm。
PHI Quantera II同時(shí)配備高收集效能的靜電式半球能量分析器，擁有大收集角度的同時(shí)，創(chuàng)新性的采用橢圓式的羅蘭圓設(shè)計(jì)，極大的提高了能量分辨率。在空間分辨率、靈敏度、能量分辨率等指標(biāo)上，堪稱世界*強(qiáng)性能XPS系統(tǒng)。配合掃描X-ray高速同步掃描，真正意義上實(shí)現(xiàn)了單點(diǎn)、多點(diǎn)、線、面分析的*強(qiáng)功能。
高靈敏度的分析能力

PHI Quantera II采用聚焦X-ray系統(tǒng)，在能量分析器的收集透鏡端摒棄傳統(tǒng)的光闌設(shè)計(jì)進(jìn)行選區(qū)，**可能的提升了光電子的收集效率，使其遠(yuǎn)遠(yuǎn)高出同類產(chǎn)品在200μm以下空間尺度的靈敏度，在30μm以下分區(qū)區(qū)域時(shí)，靈敏度高出非聚集XPS達(dá)100倍以上。同時(shí)，勿需采用磁透鏡，保證了磁性樣品分析時(shí)的靈敏度及避免了由磁透鏡所帶來的荷電中和困難，即使是磁性樣品，也可輕松應(yīng)對(duì)。在靈敏度提高的同時(shí)，極大的提高了分析效率，縮短分析時(shí)間。
占**優(yōu)勢(shì)的微區(qū)分析能力

傳統(tǒng)的XPS在微區(qū)分析定位時(shí)，存在不能清晰觀察樣品的困難。PHI Quantera II通過X-ray激發(fā)樣品產(chǎn)生二次電子影像（SXI），可由二次電子影像提供分析所用的全部細(xì)微特征。二次電子影像（SXI）與采譜過程采用相同的激發(fā)源、光電子經(jīng)過相同的光學(xué)路徑、使用同一探測(cè)器進(jìn)行成像及獲譜。避免了因?yàn)楣鈱W(xué)圖像上選點(diǎn)與分析位置的偏差，保證了所見即所得的精確分析。
微小區(qū)域的高靈敏度分析不只在于表面分析，PHI Quantera II在微區(qū)深度剖析時(shí)，在相距只有幾十微米的不同結(jié)構(gòu)區(qū)域，都可有效提供超高靈敏度的分析結(jié)果。
自動(dòng)雙束中和設(shè)計(jì)，使導(dǎo)體及非導(dǎo)體

雙束中和采用低能電子束及低能離子束，在樣品近表面形成類等離子體氣氛，用來中和絕緣樣品表面的荷電。這一的中和方式，使在分析不同類型樣品時(shí)，無需重新設(shè)置中和參數(shù)，既能自動(dòng)匹配提供穩(wěn)健的電荷補(bǔ)償功能。浮動(dòng)柱狀離子*及冷陰極發(fā)射器可以在**電壓的條件下，提供**的離子及電子密度流。
逐點(diǎn)掃描的快速化學(xué)成像能力

通過掃描X-ray，可通過條件每點(diǎn)的掃描時(shí)間快速完成化學(xué)態(tài)成像。同時(shí)能夠得到每個(gè)像素點(diǎn)的化學(xué)態(tài)信息。傳統(tǒng)的XPS通常采用拍攝大量的化學(xué)態(tài)快照，通過數(shù)學(xué)計(jì)算得到微區(qū)譜信息。而PHI Quantera II真正意義上實(shí)現(xiàn)了在化學(xué)態(tài)成像圖上獲取數(shù)據(jù)譜信息，同時(shí)數(shù)據(jù)譜的空間分辨率、靈敏度及能量分辨率與儀器主指標(biāo)一致。
精確而快速的深度剖析能力

采用的聚焦X-ray設(shè)計(jì)，可使用較小的束斑得到**的界面信息。同時(shí)采用較小的濺射面積實(shí)現(xiàn)快速的深度剖析功能。

應(yīng)用領(lǐng)域

化學(xué)：化學(xué)涂料，聚合物，催化劑。
材質(zhì)：金屬，薄膜，納米材料。
電子：半導(dǎo)體，磁盤，微電子技術(shù)和顯示技術(shù)。
生物醫(yī)學(xué)與生物醫(yī)學(xué)設(shè)備。

以上信息由企業(yè)自行提供，信息內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé)，紡織服裝機(jī)械網(wǎng)對(duì)此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。溫馨提示：為規(guī)避購買風(fēng)險(xiǎn)，建議您在購買產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。

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