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W5型全譜直讀光譜儀

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儀器介紹W5型全譜直讀光譜儀可快速的對(duì)金屬材料樣品進(jìn)行元素測(cè)定

詳細(xì)介紹

儀器介紹

W5型全譜直讀光譜儀可快速的對(duì)金屬材料樣品進(jìn)行元素測(cè)定。光學(xué)系統(tǒng)采用CMOS檢測(cè)器，光譜范圍覆蓋全部典型材料。無(wú)論從低含量元素還是到高含量的元素，它都能******、******的分析。公司在行業(yè)內(nèi)擁有光譜多年的生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)積累，針對(duì)不同材料、不同要求，設(shè)計(jì)了這款全新的、更具性價(jià)比的全譜直讀光譜儀，可滿足金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號(hào)識(shí)別、材料研究和開發(fā)的應(yīng)用。

產(chǎn)品特點(diǎn)

l 性能的光學(xué)系統(tǒng)
² 帕邢-龍格結(jié)構(gòu)凹面光柵，全譜覆蓋，滿足客戶對(duì)全元素檢測(cè)的需求。
² 直射式光學(xué)技術(shù)及采用MgF材料制作的光學(xué)器件，******紫外區(qū)域的高性能。
² 高分辯率多CMOS讀出系統(tǒng)，更低的暗電流，更好的檢出限，更高的穩(wěn)定性，更強(qiáng)的靈敏度，滿足N的分析要求。

l 智能數(shù)字激發(fā)光源

² 全數(shù)字化智能復(fù)合光源DDD技術(shù)，帶來(lái)分析性能。
² 緊湊的設(shè)計(jì)及半導(dǎo)體控制技術(shù)，使得光源具有更好的穩(wěn)定性、更強(qiáng)的******性。
² 高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS),激發(fā)參數(shù)調(diào)整，充分滿足不同基體、不同樣品以及不同分析元素的激發(fā)要求。

l 激發(fā)臺(tái)直接將激發(fā)光導(dǎo)入光學(xué)系統(tǒng)
² 開放式樣品臺(tái)，滿足大樣品測(cè)試要求。
² 變換電極可對(duì)小樣品及復(fù)雜幾何形狀樣品分析有更好的性能
² 視頻識(shí)別技術(shù)，確保樣品臺(tái)激發(fā)安全，可監(jiān)測(cè)樣品臺(tái)的全景。

l 智能集成氣路模塊
² 智能氬氣流設(shè)計(jì)及粉塵收集清理裝置
² 的氬氣噴射技術(shù)，有效消除激發(fā)過(guò)程中等離子體的飄移，確保CCD檢測(cè)器能夠觀測(cè)高溫區(qū)域光信號(hào)，提高精度和穩(wěn)定性。
² 激發(fā)后，脈沖式氬氣吹掃，提高粉塵去除效果，提升儀器的短期和長(zhǎng)期穩(wěn)定性。

l 智能真空測(cè)量和控制
² 真空系統(tǒng)******程控，在******真空度的同時(shí)減少真空泵的運(yùn)行時(shí)間，
² 雙級(jí)設(shè)置，在儀器不運(yùn)行的情況下，開啟待機(jī)真空運(yùn)行狀態(tài)。
² 多級(jí)真空隔離措施及增加濾油裝置，保障光學(xué)元器件在******的環(huán)境中工作。

l 透鏡清理裝置
² 不銹鋼真空球閥，在清理透鏡時(shí)有良好的隔離效果。
² 單板式透鏡設(shè)計(jì)，拆裝方便。
² 交叉機(jī)械裝置，在未解除隔離的情況有效保護(hù)光學(xué)系統(tǒng)。

應(yīng)用領(lǐng)域

技術(shù)參數(shù)：

項(xiàng)目	指標(biāo)
檢測(cè)基體	鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基、錳基、鉻基等13個(gè)基體
光學(xué)系統(tǒng)	帕型-龍格羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)
波長(zhǎng)范圍	165~580nm（可安裝上下限檢測(cè)器擴(kuò)大波長(zhǎng)范圍）
光柵焦距	400mm
探測(cè) 器	高分辯率多CMOS圖像傳感器
光源類型	DDD數(shù)字激發(fā)光源，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）
放電頻率	100-1000Hz
放電電流	不高于 400A
檢測(cè)時(shí)間	依據(jù)樣品類型而定，一般在25s左右
電極類型	鎢材噴射電極
分析間隙	樣品臺(tái)分析間隙:3.4mm
真空系統(tǒng)	真空軟件自動(dòng)控制、監(jiān)測(cè)
光室恒溫	34℃，溫度自動(dòng)監(jiān)測(cè)
氬氣純度	99.999%
氬氣壓力	0.5MPa
工作電源	AC220V 50/60Hz
儀器尺寸	860680438mm
儀器重量	約100kg