x熒光膜厚儀_金東霖對(duì)被測(cè)樣品發(fā)射一束一次X射線，樣品的原子吸收X射線的能量后被激發(fā)并釋放出二次X射線。每個(gè)化學(xué)元素會(huì)釋放出特定能量的X射線。通過(guò)測(cè)量這些釋放出的二次X射線的特征能量和強(qiáng)度，X射線分析儀就能夠?qū)Ρ粶y(cè)材料的鍍層厚度和成份提供定性和定量分析。
傳統(tǒng)的楔切法，光截法，電解法，都是有損檢測(cè)。而X射線它采用非接觸式穿透測(cè)量法，既不會(huì)傷害材料，更不會(huì)受板型、現(xiàn)場(chǎng)條件、潔凈度等因素的影響。并且測(cè)量穩(wěn)定、準(zhǔn)確還可以對(duì)大部分磁性或非磁性材料進(jìn)行測(cè)量。
x熒光膜厚儀_金東霖博曼（BOWMAN）分析:
元素范圍：鋁13到鈾92。
x射線激發(fā)能量：50 W(50 kv和1 ma)鎢靶射線管
探測(cè)器：硅PIN檢測(cè)器250 ev的分辨率或更高的分辨率
測(cè)量的分析層和元素：5層(4層鍍層+基材)和10種元素在每個(gè)鍍層成分分析的同時(shí)多達(dá)25元素
過(guò)濾器/準(zhǔn)直器：4個(gè)初級(jí)濾波器,4個(gè)電動(dòng)準(zhǔn)直器（0.1 0.2 0.3 1.5mm）
聚焦:多固定聚焦與激光系統(tǒng)
數(shù)字脈沖處理:4096 多通道數(shù)字分析器與自動(dòng)信號(hào)處理，包括X射線時(shí)間修正和防X射線積累
電腦:英特爾酷睿i5 3470處理器(3.2 ghz),8 gb DDR3內(nèi)存,微軟Windows 7專業(yè)64位等效
鏡頭:1/4 " cmos - 1280 x720 VGA分辨率
電源:150 w、100 ~ 240伏,頻率范圍47赫茲到63赫茲
工作環(huán)境:50°F(10°C)到104°F(40°C)小于98% RH,無(wú)冷凝水
重量:32公斤
內(nèi)部尺寸:高:140毫米(5.5”),寬:310毫米(12),深:210毫米(8.3”) 140*310mm
外形尺寸:高:450毫米(18英寸),寬:450毫米(18),深:600毫米(24) 450*450mm
