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1.硅片超聲波清洗機(jī)是超聲波清洗機(jī)在電子行業(yè)的常見(jiàn)應(yīng)用產(chǎn)品，目前應(yīng)用廣泛的硅片超聲清洗產(chǎn)品多為分體單槽超聲波清洗機(jī)。

2.硅片為什么需要超聲波清洗？

半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中玻璃硅片須經(jīng)嚴(yán)格清洗，即使是微量污染也會(huì)導(dǎo)致器件失效。

清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì)，包括有機(jī)物和無(wú)機(jī)物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài)，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。

有機(jī)污染包括光刻膠、有機(jī)溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來(lái)的油脂或纖維。

無(wú)機(jī)污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，嚴(yán)重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo)；堿金屬如鈉等，引起嚴(yán)重漏電。

顆粒污染包括硅渣、塵埃、細(xì)菌、微生物、有機(jī)膠體纖維等，會(huì)導(dǎo)致各種缺陷。

3.KQ系列分體單槽硅片超聲波清洗機(jī)技術(shù)參數(shù)：

型號(hào)	發(fā)生器體積(mm)		清洗槽容積（mm)	頻率（KHz)			功率	加熱
KQ -1000	430×380×160		460×390×280	20	25	40	1000	無(wú)
KQ -1000Q	430×380×160		460×390×280	20	25	40	1000	有
KQ -1200	430×380×160		580×360×250	20	25	40	1200	無(wú)
KQ -1200Q	430×380×160		580×360×250	20	25	40	1200	有
KQ -1500	430×380×160		650×420×250	20	25	40	1500	無(wú)
KQ -1500Q	430×380×160		650×420×250	20	25	40	1500	有
KQ -1800	430×380×160		700×450×280	20	25	40	1500	無(wú)
KQ -1800Q	430×380×160		700×450×280	20	25	40	1500	有
KQ -2000	430×380×160		740×500×280	20	25	40	2000	無(wú)
KQ -2000Q	430×380×160		740×500×280	20	25	40	2000	有
KQ -3500	460×420×180		按要求加工	20	25	40	3500	無(wú)
KQ -5000	460×420×180		按要求加工	20	25	40	5000	無(wú)
KQ -10000		按要求加工	按要求加工	20	25	40	10000	無(wú)
注：可以根據(jù)客戶要求加工定做多槽式超聲波清洗機(jī)，配置粗洗，精洗，熱風(fēng)烘干功能