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聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 紡織服裝機(jī)械網(wǎng)通常的被動(dòng)減振體系如圖所示，由需要減振的裝置（massM）和一個(gè)彈簧阻尼單元組成，它可以減小來(lái)自地板的高頻振動(dòng)
通常的被動(dòng)減振體系如圖所示，由需要減振的裝置（mass M）和一個(gè)彈簧阻尼單元組成，它可以 減小來(lái)自地板的高頻振動(dòng)。但由于這種體系會(huì)在 本征頻率時(shí)引起共振而增加振動(dòng)，通常被動(dòng)減振 體系會(huì)設(shè)計(jì)成 2 Hz 到 5 Hz 的本征頻率和 1%到 5%的輕微阻尼。主動(dòng)減振體系是用一個(gè)調(diào)節(jié)器代替了粘滯阻尼器，根據(jù) sky-hook 阻尼控制理 論，將減振裝置（mass M）速度的比例量作 為反饋?zhàn)饔糜跍p振裝置，這樣大大提高了減振的效果。
較主動(dòng)隔振系統(tǒng)采用的慣性振動(dòng)傳感器、的控制算法和較的壓電致動(dòng)器，通過(guò)連續(xù)測(cè)量地面活動(dòng)，然后擴(kuò)展和收縮壓電致動(dòng)器來(lái)過(guò)濾地面運(yùn)動(dòng)，以實(shí)時(shí)消除振動(dòng)。
較初設(shè)計(jì)用于隔離半導(dǎo)體工廠中的精密微光刻、計(jì)量和檢測(cè)設(shè)備，現(xiàn)已成為嘈雜環(huán)境（包括但不限于半導(dǎo)體工廠、失效分析實(shí)驗(yàn)室、納米技術(shù)研究、納米制造設(shè)施和材料研究中心）中較敏感儀器的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)解決方案。
通用應(yīng)用領(lǐng)域：
掃描探針顯微技術(shù) ， 納米力學(xué)探針 ， 掃描電子顯微技術(shù) ，共聚焦顯微術(shù) ，較高真空掃描隧道顯微術(shù)， 激光掃描顯微鏡 ，液晶生產(chǎn)設(shè)備 ，半導(dǎo)體檢測(cè)儀器 ，膜片鉗 （Patch-Clamp）技術(shù) ，光學(xué)輪廓儀 ，生命科學(xué)顯示平臺(tái) ，顯微硬度檢測(cè)儀，光學(xué)干涉儀 ，超微量天平等等
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