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反射膜厚儀

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鉑悅儀器（上海）有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品描述：反射光譜干涉法是一種非接觸式、無損的、快速的光學(xué)薄膜厚度測(cè)量技術(shù)。

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品概述

當(dāng)一束光入射到薄膜表面時(shí)，薄膜上表面和下表面的反射光會(huì)發(fā)生干涉，干涉的發(fā)生與薄膜厚度及光學(xué)常數(shù)等有關(guān)，反射光譜薄膜測(cè)厚儀就是基于此原理來測(cè)量薄膜厚度。

反射光譜干涉法是一種非接觸式、無損的、快速的光學(xué)薄膜厚度測(cè)量技術(shù)。

測(cè)量范圍: 1 nm - 1 mm

波長(zhǎng)范圍: 200 nm -8000 nm

光斑尺寸:2mum -3 um

產(chǎn)品特點(diǎn)：

a. 高的測(cè)量精度：0.01nm或0.01%

b. 準(zhǔn)確度：1nm或0.2%

c. 穩(wěn)定性：0.02nm或0.02%

d. 強(qiáng)大的軟件材料庫(kù)，包含500多種材料的光學(xué)常數(shù)

e. 通過Modbus TCP或OPC協(xié)議，與其他設(shè)備聯(lián)用

適用于實(shí)時(shí)在線測(cè)量，多層測(cè)量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(kù)(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等

大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測(cè)量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對(duì)二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)

標(biāo)準(zhǔn)配置中包含：

1. 主機(jī)(光譜儀，光源，電線)

2. 反射光纖

3. 樣品臺(tái)及光纖適配器

4. TFCompanion軟件

5. 校準(zhǔn)套裝

6. 測(cè)試樣品，200nm晶圓

多種型號(hào)可選，每個(gè)型號(hào)對(duì)應(yīng)不同的測(cè)量范圍：