特點(diǎn):
? 用于耐刻蝕工藝、電鍍、LIGA、MEMS等
? 感光波段:Broadband UV、i-line(365nm)
g-line(436nm)、 e-beam、X-ray、synchrotron
? 涂膠厚度從幾微米到上百微米不等
? 覆蓋能力強(qiáng),分辨率高,圖形邊緣結(jié)構(gòu)陡直
? 化學(xué)放大膠,具有非常高的靈敏度
? 可得到undercut結(jié)構(gòu),用于lift-off工藝
? 可替代SU8膠
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? 用于耐刻蝕工藝、電鍍、LIGA、MEMS等
? 感光波段:Broadband UV、i-line(365nm)
g-line(436nm)、 e-beam、X-ray、synchrotron
? 涂膠厚度從幾微米到上百微米不等
? 覆蓋能力強(qiáng),分辨率高,圖形邊緣結(jié)構(gòu)陡直
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